本實驗室研究範圍包括有：

• 銅銦鎵二硒(Cu(InGa)Se2)薄膜太陽能電池
• 氮化物薄膜結構特性研究
• 氧化鋅及摻雜Al、Ga薄膜結構研究
• 無鎘緩衝層之製備
• 高熵合金薄膜
• CNC五軸加工

• 脈衝直流電漿產生器
• 磁控濺鍍源基座
• 磁控濺鍍鎗
• 偏壓型基板旋轉加熱系統
• 單盤無刷馬達研磨拋光機
• 研磨機暨磨耗量測系統
• 表面處理及分度盤系統
• 真空計
• 質量流量控制器
• 電磁加熱攪拌器
• 磁控濺鍍源
• 薄膜殘留應力量測系統
• 磁控濺機真空錶
• 表面電漿控制薄膜製程設
• 高功率電源供應器
• 高功率電源供應器
• 薄膜表面相變化處理系統
• 一般型電腦含25吋螢幕
• 一對一分離式冷氣機
• 一對二分離式冷氣機
• 17吋液晶顯示器
• 檯燈
• 防潮箱
• 加熱攪拌器
• 萬能夾具
• 溫度探棒
• 銑刀刀具夾頭
• 19吋液晶顯示器
• 外接式硬碟
• 顯示卡
• 資料櫃